文献类型：期刊文献

中文题名：Double设计在对称化L_2-偏差下的均匀性

英文题名：Uniformity in terms of the symmetric L_2-discrepancy of double designs

作者：雷轶菊[1];覃红[2]

第一作者：雷轶菊

机构：[1]新乡学院数学系;[2]华中师范大学数学与统计学学院

第一机构：新乡学院数学与信息科学学院

年份：2010

卷号：44

期号：3

起止页码：369-372

中文期刊名：华中师范大学学报：自然科学版

收录：CSTPCD;;北大核心:【北大核心2008】；CSCD:【CSCD2011_2012】；PubMed;

基金：国家自然科学基金项目(10671080)

语种：中文

中文关键词：double设计;对称化L2-偏差;均匀性;均匀设计

外文关键词：double design; symmetric L2-discrepancy; uniformity; uniform design

摘要：二水平部分因子设计在工农业生产、科学实验等领域得到广泛应用,因此有关二水平部分因子设计的研究一直是热点问题.最近,一种称为doubling的方法被用来构造二水平部分因子设计,特别是在构造分辨度为Ⅳ的设计时,这种方法是非常简单但很实用的方法,本文从均匀性的角度来研究double设计,进一步讨论doubling方法的实用性,利用对称化L_2-偏差作为均匀性的测度,发现double设计D(X)的均匀性与初始设计X的均匀性有着密切的联系,给出了double设计在对称化L_2-偏差下的下界.
Two-level fractional factorial designs have been widely used in industry, agriculture and scientific experiments. For constructing two-level fractional factorial designs, a method called doubling has been recently used. In particular, in constructing those of resolution IV, doubling is a simple but very powerful method. This paper stud- ies double designs in view of uniformity. It uses the symmetric L2-discrepancy as the measure of uniformity, and provides some lower bounds of double designs in the sense of the symmetric L2-discrepancy. Using these lower bounds, it values uniformity of double designs. Furthermore, a close connection of uniformity between the double design D（X） and its initial design X is also given.