文献类型：期刊文献

中文题名：Double设计在对称化L_2-偏差下的广义字长型

英文题名：The Generalized Word Length Pattern of Double Designs under the Symmetric L_2-discrepancy

作者：雷轶菊[1]

第一作者：雷轶菊

机构：[1]新乡学院数学系

第一机构：新乡学院数学与信息科学学院

年份：2012

期号：4

起止页码：14-15

中文期刊名：江苏教育学院学报：自然科学版

基金：国家自然科学基金(项目编号:No.10671080)

语种：中文

中文关键词：double设计;对称化L2-偏差;均匀性;广义字长型

外文关键词：double design,symmetric L2-discrepancy,uniformity,generalized word length pattern.

摘要：在工农业生产、科学实验等领域都广泛应用到二水平部分因子设计.最近,在构造二水平部分因子设计时一种称为doubling的方法被使用.特别是在构造分辨度为IV的设计时,doubling是非常简单但很实用的方法.本文利用对称化L2-偏差作为均匀性的测度,得到了double设计D(X)的对称化L2-偏差值与初始设计X的广义字长型之间的关系.利用上述关系,我们断定对于具有广义较小低阶混杂的初始设计X,其对应的double设计D(X)也应该具有较小的对称化L2-偏差值,也就是说,D(X)应该具有较好的均匀性.
Two-level fractional factorial designs have been widely used in industry,agriculture and scientific experiments.For constructing two-level fractional factorial designs,a method called doubling has been recently used.In particular,in constructing those of resolution IV,doubling is a simple but very powerful method.In this paper,we use the symmetric L2-discrepancy as the measure of uniformity,obtain result connecting the symmetric L2-discrepancy of D(X) and the generalized wordlength pattern of X.We conclude that if X has less generalized aberration,then D(X) has lower symmetric L2-discrepancy,i.e.,D(X) has better uniformity.